纳米技术能让物质变得更好-小知识

话题：纳米技术能让物质变得更好,是 吗?是提炼了物质的有益

问题详情：如何识别真假纳米技术生产的 呢?谁知道?谢谢,都说纳米的

回答：、纳米材料:当物质到纳米尺度以后,大约是在0.1—100纳米这个范围空间,物质的性能就会发生突变,出现特殊性能。这种既具不同于原来组成的原子、 ,也不同于宏观的物质的特殊性能构成的材料,即为纳米材料。如果仅仅是尺度达到纳米,而没有特殊性能的材料,也不能叫纳米材料。 纳米技术不同于微米技术。后者是利用光刻及腐蚀等技术,从宏观尺度自上而下地进行材料的制造,集中表现在集 路的生产等方面。而纳米技术则相反,其突出特点是基于自 这种自下而上的方式制造纳米材料。当然,纳米材料的制造不完全依靠自 ,为了保证批量生产的效率,也 时运用光刻技术。 米生物学和纳米 物学,如在云母

话题：45纳米和65纳米的CPU差别在那里?

回答：45nm的功耗更低,超频性跟好。 工艺越先进,单个面积能容纳跟多的晶体管,性能当然更好。

参考回答：制成是CPU所属于的时 的指标,也是功耗的一个重要指标,但是切不可以为制成就 功耗水平,Intel对于控制功耗还有很多其他手

话题：电子束光刻技术原理,方法,优缺点?急求!!查阅了 还

回答：电子束光刻中使用的 机一般有两种类型:直写式与投影式。直写式就是直接将会聚的电子束斑打在表面涂有光刻胶的衬底上,不需要光学光刻工艺中最昂贵和制备 时的掩膜;投影式则是通过高精度的透镜系统将电子束通过掩膜图形平行地缩小投影到表面涂有光刻胶的衬底上。一般直写式 机主要使用的是热场发 源(表面镀ZrO的钨金属针尖), 度在100K,和冷场发 源相比可以有效地防止针尖的 并提供稳定的光源。电子源发 出来的电子束的聚焦和偏转是在镜筒中完成的。镜筒通常包含有光阑、电子透镜、挡板、像散校正器和法拉第电流测量筒等装置。光阑的作用主要是设定电子束的会聚角和电子束电流。电子透

话题：纳米平板印 术与光刻技术 别

回答： 别大了。你所谓的纳米平板印 技术是指纳米压印的一种,而纳米压印又算做是下一 光刻技术中的一种。 光刻,是一种图形转移的方法,是把设计好的图形转移到涂覆在衬底表面的光刻胶层上的方法。如果按照你说的纳米平板印 术这个层次来分类,那么光刻的种类有几十种,就不一一叙述了,建议看专业书籍。

话题：什么是纳米光刻?

回答：镭

话题：什么叫纳米岛

回答：介绍了一种基于微加工技术的新方法——纳米岛光刻技术。利用该技术制造出几十纳米到微米尺度的岛结构,然后利用剥离、刻蚀等微加工技术,将该岛转化成纳米孔、纳米岛、纳米井等结构。该技术的特点是能够制造出具有各种密度的纳米结构(最高覆盖率可达50%以上),且开发成本低,工艺性能优越,是一种有效制造纳米岛结构的专业方法

参考回答：三个维度均为纳米尺度的块,就象量子点一样 膜是二维的,厚度方向是纳米的,但沿长度方向可认为是无限大,所以是二维的纳米材

话题：浸入式光刻

回答：属于。,。。。。

话题：光刻工艺对 有害吗?

问题详情：我们 要求我们,一天必须在光刻间 12小时,一 下来4小

回答：不大

参考回答：多少纳米,多少线宽,光刻PCB么,都需要知道的。我 光源,希望得到详细情况

话题：请问最新的CPU用的几十纳米技术?用什么光刻机实现的?

回答：目前是INTEL的32NM,不过INTEL已经准备22NM了.光刻机.32nm制程目前用的是13nm沉浸式光刻技术具Intel透露,计划要将13nm沉浸式光刻技术沿用到11nm节点制程当然,光刻技术还有极紫外光刻技术,不过还处在实验阶段,显然INTEL目前不怎么看好这个技术 LS,现在INTEL的I3和I5 6XX就是32NM的CPU核心+45NM的GPU核心,I 0X也是32NM制程

参考回答：因特尔 i5 i 都是45纳米 AMD也是,听说下一 处理器就是32纳米的,符合摩尔定律。晶体管发热和电流漏电现象是 晶体管变小的一个重要原因,因此,新一 Penryn处理器 将采用全新材料 的45nm晶体管绝缘层(insulating wall)和开关闸极 (switching gate),减低晶体管漏电(electrical leakage)情况。 为能达到大幅降低漏电情形且可同时提升

话题：I3 处理器的材质是什么

问题详情：I3 处理器采用的是多少纳米的材料?

回答：32纳米光刻制程

参考回答：主要是硅还有一些重金属